ESC 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
2011.04.05 11:28
안녕하세요. 반도체 장비회사에 재직중인 직장인 입니다.
O2 plasma 관련 글을 검색하다가, O2 plasma 에는 음이온이 다수 존재하여 Matching 조건이 다른 Plasma 와 조금
다를 수 있다는 내용을 보았는데요..
현재 O2 Plasma 를 사용하는 Ashing 공정에서 ESC 를 인가하는 조건과 인가하지 않는 조건 간에 Matching trend 가 매우
다른 현상이 발견되고 있습니다. ESC 에 인가되는 + DC Power 와 음이온 발생 분위기와 어떠한 상관 관계가 있는지 궁금
합니다. 실제로 ESC 에 인가되는 +DC 전압이 Chamber 내부의 음이온 발생 정도와 관계가 있을 수 있는지요?
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76677 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20149 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57149 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68670 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92179 |
41 | 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] | 9953 |
40 | matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] | 10324 |
39 | 반응기의 면적에 대한 질문 | 12809 |
38 | 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. | 13201 |
37 | ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] | 14767 |
36 | Virtual Matchng | 16852 |
35 | ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. | 16918 |
34 | Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다. | 17330 |
33 | electrode gap | 17945 |
32 | Faraday shielding & Screening effect | 18347 |
31 | 최적의 펌프는? | 18537 |
30 | scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] | 19211 |
29 | MFC | 19329 |
28 | CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여 | 19341 |
27 | [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] | 19833 |
26 | 석영이 사용되는 이유? [1] | 20011 |
25 | 플라즈마 matching | 20231 |
24 | CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] | 20376 |
23 | 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] | 21109 |
22 | ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] | 21185 |