Etch AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제
2022.08.22 14:09
안녕하세요, 처음으로 글을 써봅니다.
AlCu Etch시 Cl2, BCl3 , N2 3개의 gas를 이용하여 Etching 하고 있습니다만 Etch 후 검정색 점형태 혹은 가루같은 형태로 Dust가 남아있는 문제가 있습니다.
Dust 는 Copper 성분으로 생각되는데 확실하진 않습니다.
Wet으로 제거했던 경험이 있는데 Dry Etch로는 지울 수 없는건지요?
Etching 장비는 TCP형태입니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76692 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57159 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68680 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92218 |
182 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 54 |
181 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 61 |
180 | sputtering 을 이용한 film depostion [1] | 102 |
179 | FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 | 165 |
178 | 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] | 166 |
177 | 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] | 184 |
176 | AP plasma 공정 관련 문의 [1] | 196 |
175 | Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] | 200 |
174 | GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] | 213 |
173 | Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] | 224 |
172 | Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] | 225 |
171 | gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] | 245 |
170 | 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] | 272 |
169 | RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] | 289 |
168 | RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] | 313 |
167 | RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] | 353 |
166 | 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] | 363 |
165 | 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] | 384 |
164 | center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 | 392 |
163 | PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] | 395 |