Etch ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각]
2024.07.13 21:43
안녕하세요. 플라즈마를 공부하고 있는 고등학생입니다. ExB drift 식 유도과정에서 v=Acos(ωt)+Bsin(ωt)라는 식과 v=vcos(ωt+δ)라는 식을 통해서 유도할 수 로렌츠 힘 공식을 통해 정리할 수 있다라고 하는데, 이때, v=Acos(ωt)+Bsin(ωt)라는 식과 v=vcos(ωt+δ)라는 식은 어느 개념에서 나온 공식들인가요?
아래 링크는 위 식을 발견한 사이트와 영상 링크입니다.
https://seraphy.tistory.com/3
https://youtu.be/aa59FYImRPQ?si=Kr7mnXZblFSn_7PH (37:28 부근)
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] | 79237 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 21259 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 58062 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 69620 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 94403 |
13 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 24291 |
12 | H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점… [폭발과 pressure] [1] | 24825 |
11 | 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. | 24992 |
10 | OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [Etching] [1] | 29209 |
9 | PECVD에서 플라즈마 demage가 발생 조건 [쉬스와 플라즈마 밀도에 의한 damage] | 29904 |
8 | [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. | 30272 |
7 | [Sputter Forward,Reflect Power] [Sputter와 matching] [1] | 31318 |
6 | DC Bias Vs Self bias [전자 에너지 분포] [5] | 31747 |
5 | RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. | 31765 |
4 | RF에 대하여... | 32313 |
3 | PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정] [1] | 32737 |
2 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [ECR과 enhanced process] [2] | 35070 |
1 | 플라즈마내에서의 아킹 [Charge와 plasma potential] | 43795 |
제가 동영상은 보지 않았지만, 이는 삼각함수 문제이니 이쪽 공부를 해 보시고. 다만, 여기서 delta,.의 수학적 의미와 물리적 관련 현상을 찾아 보면 큰 공부가 되겠네요. 자화 플라즈마의 거동을 이해하기 위해서는 delta 값의 의미를 반드시 이해 해야 합니다.
화이팅~