Deposition PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다.
2023.04.11 16:35
안녕하세요 Plasma를 이용하여 ALD 실험을 진행하고 있는 대학원생입니다.
다름이 아니라 어느 순간부터 plasma를 발생시키게 되었을 때 처음 발생시킬 때에는 플라즈마 빛의 세기도 매우 강하고 잘 생성이 된다고 생각이 들었는데 그 이후로 발생시킬 때는 플라즈마의 색깔도 조금 변하고 세기가 많이 약해집니다.
NH3, N2 plasma를 최근 이용하였을 때 계속해서 그러한 현상이 일어나고 있습니다.
이러한 현상에 대해서 혹시 원인을 알고 계셔서 알려주신다면 정말 감사드립니다 ㅠㅠ
아님 개인적인 소견이라도 말씀해주시면 정말 큰 도움이 될 것 같습니다 ㅠㅠ
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] | 75767 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19453 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56672 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68028 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 90318 |
35 | PECVD Uniformity [1] | 172 |
34 | Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] | 180 |
» | PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] | 308 |
32 | magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] | 438 |
31 | 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] | 622 |
30 | O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. | 651 |
29 | 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] | 992 |
28 | [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] | 1223 |
27 | PECVD 증착에서 etching 관계 [1] | 1336 |
26 | Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] | 1342 |
25 | Pecvd 장비 공정 질문 [1] | 1516 |
24 | CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] | 1547 |
23 | PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] | 1552 |
22 | RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] | 1723 |
21 | 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] | 2098 |
20 | HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] | 2757 |
19 | PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] | 2828 |
18 | 플라즈마 색 관찰 [1] | 3946 |
17 | SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] | 3973 |
16 | 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] | 6427 |
장비 세정을 해 보세요. 장비 관리 규칙도 마련해야 할 것 같습니다. 장비 사용한 선배들과 경험을 나눠보시면 좋을 것 같고요. 장비마다 특성이 있기 떄문입니다.