안녕하세요 반도체 장비회사에서 인턴으로 일하고있습니다.


pecvd장비를 이용해 ACL(amorphous carbon layer)을 올리는데 박막 stress를 줄여보고자 analog tuner를 chamber side bottom에 달았습니다.


여기서 궁금한 것은 analog tuner가 어떤 원리로 쓰여지는건지 궁금합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76541
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20077
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
24 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 629
» analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 650
22 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 832
21 고진공 만드는방법. [1] 1001
20 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1124
19 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2203
18 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] 9910
17 반응기의 면적에 대한 질문 12809
16 Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다. 17316
15 Faraday shielding & Screening effect 18343
14 최적의 펌프는? 18530
13 MFC 19318
12 CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여 19336
11 석영이 사용되는 이유? [1] 20000
10 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] file 20357
9 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 21098
8 Peak RF Voltage의 의미 22579
7 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24528
6 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24763
5 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25579

Boards


XE Login