CCP RF를 이용하여 Crystal 세정장치

2007.05.28 11:47

최진수 조회 수:18874 추천:338

안녕하세요. 저는 진공업체에 종사합니다.
이번에 RF를 사용하여 Crystal시료를 세정한는 장치를 연구 중입니다.
(예전에 RF이용하여 장비를 제작하였습니다.)

질문1. RF를 하고나서 시료를 보면 보라색이나 분홍색으로 변합니다.
왜 색깔이 변하는지 알고 싶습니다.(진공도는 10mTorr)
그리고 색깔이 변하지 않게 하는 방법은?

질문2. RF를 하면 Crystal표면이 에칭이 되는 지?(RF Power는 200W)
(Crystal의 두꼐에 따라 주파수가 변합니다)
그리고 시료를 담는 마스크도(재질 SUS)도 에칭이 되는지?
에칭이 되지않게 하는 방법은?

질문 3. RF 시스템은 현재 구상하는 것은 RF전극인 양판에 시료를 양판 중간에 넣어 RF를 실시
이때 유의할점은 무엇인지 ?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
26 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 129
25 plasma striation 관련 문의 [1] file 461
24 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 566
23 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 588
22 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 638
21 라디컬의 재결합 방지 [1] 778
20 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 850
19 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 948
18 anode sheath 질문드립니다. [1] 959
17 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 972
16 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1043
15 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1193
14 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1426
13 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1594
12 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2250
11 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3498
10 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 4713
9 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7629
8 CCP 의 electrode 재질 혼동 16480
7 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16645

Boards


XE Login