질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92269 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76713
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20169
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68693
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92269
30 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 102
29 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 117
28 skin depth에 대한 이해 [1] 120
27 ICP에서 전자의 가속 [1] 133
26 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 714
25 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 831
24 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1058
23 공정플라즈마 [1] 1145
22 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1322
21 ICP lower power 와 RF bias [1] 1433
20 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1482
19 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1596
18 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1660
17 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1668
16 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1900
15 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1950
14 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2310
13 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2312
12 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2313
11 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2471
쓰기
태그

Boards

XE Login