안녕하세요 직장에서 플라즈마를 사용하는 일반 사원입니다.

챔버내에서 Shower Head와 기판사이에서 기판과 가까운(솟아나온부분) 곳에서 생기는 박막형에 비해 기판과 먼(옆 테두리들어간 부분)곳에 생기는 부산물들이 기존의 박막층보다 엉성하고 입자가 큰 경우 기존의 받아들이던 플라즈마 값에서 변화가 일어나는데 이러한 점을 줄일 수 있는 방법이나 이론을 알고싶어 글 남깁니다. 또한 실제로 이 부산물들이 플라즈마에 어떤 영향을 미치는지 알고싶습니다.semiconductor shower head에 대한 이미지 검색결과

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
101 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 832
100 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 835
99 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 862
98 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 951
97 고진공 만드는방법. [1] 1001
96 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1001
95 Plasma Arching [1] 1024
94 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1099
93 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1118
92 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1146
91 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1249
90 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1318
89 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1383
88 MATCHER 발열 문제 [3] 1425
87 알고싶습니다 [1] 1438
86 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1445
» rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1449
84 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1456
83 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1477
82 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1485

Boards


XE Login