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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다.
[2] | 19073 |
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CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여
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MFC
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[질문] 석영 parts로인한 특성 이상
[1] | 19738 |
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석영이 사용되는 이유?
[1] | 19781 |
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플라즈마 matching
| 19896 |
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CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마...
[1]  | 20174 |
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전자파 누설에 관해서 질문드립니다.
[1] | 20978 |
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ICP 플라즈마 매칭 문의
[2] | 21019 |
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Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 22031 |
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Peak RF Voltage의 의미
| 22343 |
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MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22482 |
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안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
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HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
| 23179 |
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16 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의
[1] | 24577 |
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Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1] | 24608 |
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RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24644 |
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스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
| 25484 |
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dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[3] | 25582 |
