Others QMA에 관하여

2004.06.19 16:02

관리자 조회 수:19325 추천:307

저는 지금 플라즈마 진단을 위하여 QMA를 사용하고 있습니다.
RGA mode와 Ion mode가 있는데.. 차이점을 알고 싶습니다.
제가 사용하는 system은 electron beam의 에너지를 control이 가능한데..

1. RGA mode에서 electron beam의 에너지를 0eV로 한 경우와
    Ion mode의 차이점을 알고 싶습니다.

2. Plasma를 여기시킨 상태에서 RGA mode를 사용하는 경우(위의
  질문과 연관이 되는 것 같은데.. )
  QMA의 gas input단에서 이온을 QMA내로 들어오지 못하게 하는
  기능이 있는지 알고 싶습니다. ^^

수고하싶시오.. ^^

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] 75432
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19168
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56480
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67563
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89370
748 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 61
747 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 80
746 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 80
745 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 89
744 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 90
743 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [1] 99
742 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 105
741 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 120
740 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 123
739 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 124
738 corona model에 대한 질문입니다. [1] 127
737 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 129
736 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 135
735 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 138
734 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 140
733 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 142
732 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 143
731 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 144
730 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 147
729 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 149

Boards


XE Login