Langmuir Probe 고전압 방전 전기장 내 측정

2018.09.18 09:43

석의수 조회 수:1063

안녕하세요. 한국기계연구원과 전기집진기 관련하여 테스트를 진행중인데,

여기에 플라즈마나 랭뮤어프로브와 유사한 기술이 관련있는 것으로 알고있습니다.

400mm*400mm 사이즈의 2개의 판재가 200mm 간격으로 배열되어있고, 그 중간 지점에 방전침이 있습니다.

방전판과 방전침 사이에 20kV정도 고전압을 인가하면 파란 방전이 약하게 형성됩니다.

X,Y,Z축으로 움직일 수 있는 모션 스테이지 끝부분에 알루미나로 외부를 절연시킨 탐침침을 고정했습니다.

프로브를 밀어넣어 멀티미터로 측정하여 아래 그림와 같은 결과가 나왔습니다.

2018-09-18_093510.png

저는 단순히 멀티미터에 방전판을 공통라인으로 연결하고 프로브에서 측정하였습니다만.

바이어스전압을 인가하여 측정을 해야한다는데, 바이어스전압이 어떤 의미인지? 어떻게 연결하여야하는지 도움을 받고 싶습니다.

현재는 프로브에 반대극성의 고전압을 연결하여 측정하는 방법을 생각중에 있습니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76712
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20168
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68690
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92258
788 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 20
787 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 51
786 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 56
785 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 61
784 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 68
783 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 71
782 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 79
781 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 81
780 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 100
779 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 101
778 Microwave & RF Plasma [1] 108
777 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 108
776 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 114
775 skin depth에 대한 이해 [1] 118
774 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 122
773 ICP에서 전자의 가속 [1] 132
772 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 136
771 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 145
770 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 146
769 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] 156
쓰기
태그

Boards

XE Login