안녕하세요.

수중저전압 플라즈마방전을 이용한 제품을 개발하고 있는데 조언을 얻고자 합니다.

금형개발한 전극에 DC24를 인가하여 상수도수안에서 적당량의 미세기포를 발생시켰으며, 리스테리아균, 대장균등을 99.9% 이상의

살균결과를 얻었읍니다. 그런데, 해수의 비브리오균에 대한 살균여부를 문의한 바이어 요청으로, 

염도 1%의 물에 금형개발한 전극을 담그고, DC24V를 인가하였더니 미세기포가 상수도수에 비해 적게 발생하는 것입니다.

염도 1%(최대 2%)의 물에서, 금형수정없이, DC24V로  미세기포를 좀 더 생성시킬 방안이 없을까요??

(상수도수에서 전극에 걸리는 전류치는 4A수준임.) 

참고로, 1) 전기전도도가 높은 유체에서 미세기포가 덜 활성화되는 정확한 이유를 알고 싶습니다..

             2) 상수도수에서 전류치가 4A가 걸리면, 염수에서는 어느정도가 될까요? 

*바쁘시더라도 꼭~~ 답변부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5829
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17286
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53125
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64503
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85115
698 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 31
697 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 64
696 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 72
695 ICP lower power 와 RF bias [1] 95
694 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 104
693 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 124
692 plasma modeling 관련 질문 [1] 160
691 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 161
690 ESC DC 전극 Damping 저항 162
689 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 169
688 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 184
687 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 216
686 RF Sputtering Target Issue [1] file 220
685 plasma striation 관련 문의 [1] file 221
684 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 223
683 Polymer Temp Etch [1] 226
682 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 232
681 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 236
680 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 241
679 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 247

Boards


XE Login