안녕하세요. 카이스트에서 석사 1년차로 있는 대학원생입니다.

 

Single probe로 electron energy probability distribution을 구할 때, low energy electron은 bulk plasma에서 평형 상태에 도달한 전자들을 지칭하고 high energy electron은 cathode에서 방출되고 probe sheath를 통해 bulk plasma로 가속되는 전자들을 지칭하는 것으로 알고 있습니다.

 

이 두 그룹의 전자들을 구분할 수 있는 식이 따로 있는지 궁금합니다. 실험을 통해 얻은 EEPF에서 몇 eV부터 몇 eV까지는 low energy electrons이고 몇 eV부터 몇 eV까지는 high electrons이다 라는 형태의 답을 얻고 싶습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4984
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16332
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51258
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63785
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83590
680 RPSC를 이용한 SiO, SiN Etch 관련 문의드립니다. [1] 9
679 plasma striation 관련 문의 [1] file 38
678 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 41
677 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 45
676 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. [1] 48
675 Polymer Temp Etch [1] 69
674 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 69
673 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 86
672 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 103
671 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 110
670 Plasma Arching [1] 125
669 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 147
668 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 159
667 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 209
666 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 209
665 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 214
664 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 214
663 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 217
662 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 218
661 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 231

Boards


XE Login