안녕하세요, 의료기기 회사에 재직중인 회사원입니다.

 

최근 사내 내부학습 개념으로 패럴린과 같은 고분자화합물 과 플라즈마 표면처리, 에칭 등의 공부를 하고 있습니다.

스스로나 주변에도 해당 지식이 없는 사람들 뿐이라 인터넷으로 겨우겨우 찾아보며 알아가는 실정입니다.

 

질문드리고자 하는 내용은 에칭과 표면처리에 대한 차이점 입니다.

 

먼저 제가 이해하고 있기로는

표면처리는 보드기판이나 어떠한 물질에 고분자화합물을 코팅하게 되면 증착이 잘 되지 않으므로

플라즈마를 이용해 표면처리(활성화) 를 한 뒤 코팅을 하여 증착력을 높히는 것 과

에칭은 증착된 코팅물질을 없애는 방법 이라고 이해 했습니다.

 

헌데 표면처리 라는 것도 보드의 표면에 있는 이물질이나 원자? 등을 제거하는 것이라고도 생각이 되는데

그렇다면 표면처리를 오래 한다거나 강하게 하면 그것이 에칭이 되는것인가요?

표면처리에 사용되는 제품은 에칭으로는 사용을 못하는 것인가요?

 

질문의 수준이 매우 낮을지도 모르겠네요... 이해 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
543 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1143
542 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1145
541 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1146
540 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1146
539 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1159
538 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1173
537 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1176
536 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1193
535 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1204
534 플라즈마 챔버 [2] 1205
533 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1210
532 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1216
531 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1232
530 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1234
529 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1249
528 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1266
527 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1267
526 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1267
525 플라즈마 기초입니다 [1] 1279
524 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1287

Boards


XE Login