안녕하세요.

해외에서 박사과정을 하고 있는 학생입니다.


RF스퍼터로 reactive sputtering을 통해 유전층을 증착하는 실험을 하는데요.

저희연구실에서는 스퍼터링 가스로 Ar/Kr를 사용하고 있습니다.

학부때는 Kr이 Ar보다 질량이 커서 sputtering yield가 증가한다 정도로만 배웠는데, ion bombardment energy 가 작기 때문에 플라즈마 데미지가 줄고, 더 좋은 막질이 형성된다고 하더라구요.

논문을 조금 찾아봤는데 스퍼터링 가스에 대한 연구는 오래전에 진행되었는지 최근논문들을 찾아보기 힘들더라구요.

그냥 단순히 생각했을 때 질량이 크면 충돌하는 에너지도 크고, 데미지가 더 셀 것 같은데 Kr 등의 가스가 Ar보다 플라즈마 데미지가 적은 원리에 대해 설명을 부탁드려도 될까요?


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
483 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1475
482 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1477
481 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1485
480 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1518
479 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1550
478 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1564
477 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1576
476 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1587
475 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1594
474 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1617
473 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1630
472 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1637
471 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1655
470 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1662
469 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1667
468 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1677
467 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1683
466 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1688
465 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1696
464 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1716

Boards


XE Login