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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[266]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20152 |
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
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Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 22236 |
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Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 22538 |
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MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22576 |
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84 |
Peak RF Voltage의 의미
| 22598 |
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83 |
pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
[1] | 22616 |
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[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 22693 |
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81 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 22757 |
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floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점
[2] | 22850 |
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안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
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CCP/ICP , E/H mode
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입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
| 23054 |
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No. of antenna coil turns for ICP
| 23092 |
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75 |
고온플라즈마와 저온플라즈마
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DC glow discharge
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CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
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HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
| 23329 |
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광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요?
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플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다.
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N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요
[2] | 23756 |
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68 |
Arcing
| 23790 |
