Etch RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소

2022.03.24 15:39

오브리야 조회 수:1045

안녕하십니까, 반도체분야에서 공부하고 있는 비전공자 학생입니다. 

 

최근 RIE 장비로 Etching test를 진행 중 궁금한것이 생겨서 질문드립니다.

RIE 장비에서 Etching rate에 크게 기여하는 부분이 dc-bias라고 알고 있습니다. 

가스 유량, 압력, 그리고 power 심지어 reflected power 마저도 동일한데 dc-bias만 대략 70V나오던 것이 50V로 줄어드는 현상이 있었습니다. 혹시 이러한 간간히 일어나는 건가 싶어 질문남겨드립니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76543
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
703 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 462
702 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] 463
701 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 467
700 PECVD Uniformity [1] 468
699 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 469
698 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 469
697 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 474
696 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 477
695 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 480
694 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 492
693 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 496
692 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 505
691 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 508
690 self bias [1] 514
689 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 515
688 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 526
687 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 536
686 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 536
685 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 538
684 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 542

Boards


XE Login