안녕하세요

측정장비 분야에서 일하고 있는 연구 엔지니어입니다.

 

ICP(13.56MHz) 이용해 플라즈마 띄우고 Standard L-type Matching Network 사용중입니다.

Matcher에 대해 어느정도 이론은 이해했다고 생각했는데 현실은 다르네요.

 

안테나와 Matcher 間 거리, 안테나의 길이, Clamp로 엮는 위치 등등 모든게 변수가 되는 것 같습니다...

이러한 이유로 Plasma를 띄운 후 Current 값이 계속해서 안정적이지 못하고 뛰는 것 같은데 혹시 이러한 값들도 영향을 미치나요?

 

혹시 최선의 값을 알고 계신다면 알려주시면 진심으로 감사하겠습니다.

바쁘신 연구 와중에도 항상 저희에게 도움을 주셔서 감사합니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [267] 76710
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20163
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57163
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68685
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92246
668 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 596
667 plasma 공정 중 색변화 [1] 602
666 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 603
665 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 604
664 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 607
663 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 608
662 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 612
661 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 615
660 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 615
659 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 624
658 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 633
657 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 634
656 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 636
655 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 657
654 Polymer Temp Etch [1] 659
653 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 664
652 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 669
651 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 674
650 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 677
649 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 679

Boards


XE Login