안녕하세요. 투명전극을 주제로 실험 및 공부를 하고 있는 학생입니다.

다름이 아니라 저희 연구실에서 sputter장비를 set up하고 있는데 해결을 못하고 있는 문제가 있어서 조언을 요청드립니다.

RF magnetron sputtering 장비이며 4in target 4ea 가 장착되어있는 chamber인데, RF파워 인가시, 초기에 plasma가 발생하였다가 reflect가 올라가면서 불안정적으로 변하면서 완전히 꺼지는 현상이 있습니다. chamber open후 target상태를 보면 target마다 다르지만 erosion track이 비 정상적으로 좁고 깊게 파이거나 damage를 입은것을 확인할 수 있습니다.

초기엔 target gun 의 magnet flux를 의심하였는데 타 회사의 gun에서도 비슷한 경향이 나타나고 있습니다.

1.혹시 matcher에서 mismatch가 발생하면서 이러한 현상이 발생할 수 있나요?(있다면 왜 plasma on초기부터 발생하지 않고 나중에 발생하는지 이유를 알 수 있을까요?

2.혹시 제가 고려하지 못한 다른 제어 요소가 있는지 여쭤보고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [300] 77924
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20788
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57703
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69208
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93561
676 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 645
675 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 649
674 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 651
673 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 653
672 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 654
671 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 655
670 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 656
669 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 657
668 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher] [2] 669
667 RF Sputtering Target Issue [2] file 671
666 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 678
665 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 679
664 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 681
663 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 685
662 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 686
661 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 693
660 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 703
659 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 707
658 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 708
657 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 708

Boards


XE Login