안녕하십니까 교수님


공정 실습 중 Dechucking 이슈에 대해 궁금증이 있어 이렇게 글을 남깁니다.

제가 확인한 이슈는 dechucking 이후 핀업 진행 시 웨이퍼가 슬라이딩 하는 문제였는데, 해당 이슈에 대해 config값을 (0->5)변경하여 He flow가 되도록 조치했다는 것을 알았습니다.

chucking 과정중 He의 역할이 온도를 낮추는 역할 정도로 알고 있는데, He 가스가 chucking에서 어떤 역할들을 하는지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [267] 76710
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20163
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57162
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68684
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92246
648 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 685
647 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 694
646 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 695
645 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 696
644 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 698
643 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 703
642 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 707
641 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 708
640 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 709
639 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 714
638 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] 714
637 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 723
636 ICP 후 변색 질문 724
635 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 726
634 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 734
633 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 736
632 교수님 질문이 있습니다. [1] 740
631 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 742
630 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 753
629 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] 755

Boards


XE Login