제가 self bias에 대해 이해한 바는,

"RF를 가해주면,전자와 양이온의 이동도 차이로 인해 양 전극에 모두 self bias가 나타난다. 두 전극의 면적이 동일하면 같은 크기의 self bias가 생겨 전위가 같아져 어느 한쪽이 음극의 역할을 하지 못하므로 면적조절,capacitor연결,접지 등의 방법으로 한 쪽의 self bias크기를 키워 한쪽 전극을 음극의 역할을 할 수 있게 만들어준다."

입니다.

혹시 이해한 내용이 맞는지 확인 한번만 해주시면 감사하겠습니다!

 

제가 헷갈리는 부분은

교수님께서는 "이때의 표면 전위는 충전에 의한 전위 (전압)으로 인가된 전원 전압(RF)의 DC shift 값을 의미하게 되며, 플라즈마와 만나는 전극의 DC shift 전압을 스스로 결정이 되는 값으로서 selfbias 값이라고도 합니다. 따라서 모든 전극면에는 DC shift 전압이 만들어집니다."라고 설명해주셨으나, 교육에서는 두 전극의 크기가 같고 조건이 동일하다면, self bias가 형성되지 않는다. 라고 하였습니다.  제가 교수님 말씀을 이해한 바로는 두 전극의 면적이 동일하더라도 양 전극에 크기가 같은 self bias가 생기는 것이라고 이해했기 때문입니다.

하여 두 내용이 조금 모순되는 부분인 것 같아 제가 개념을 잘못이해하고 있는 것인지 궁금해서 질문드립니다! 읽어주셔서 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76677
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20151
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57151
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68672
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92182
273 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 96
272 Microwave & RF Plasma [1] 103
271 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 117
270 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 128
269 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 135
268 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 146
267 corona model에 대한 질문입니다. [1] 169
266 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 170
265 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [1] 186
264 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] 186
263 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 204
262 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 225
261 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 248
260 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 304
259 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 309
258 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 314
257 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 319
256 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 339
255 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 341
254 standing wave effect, skin effect 원리 [1] 347

Boards


XE Login