Sheath RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다.
2012.11.07 17:15
안녕하세요. 고려대학교 김동석 입니다.
스퍼터링 장비 사용 중 학술적인 문의사항이 있어 질문 드립니다.
1. DC sputtering 사용 중 power supply에 표시되는 DC bias는 막질에 어떤 영향을 주나요?
공부가 부족하여 단순히 Sheath에서 걸리는 전위차라고만 알고 있는데...
DC bias가 증가하는 경우와 감소하는 경우 성막에 어떠한 차이를 유발하는지 궁금합니다.
2. RF sputtering 에는 DC bias가 존재하나요?
RF 스퍼터링의 경우 sheath가 생성되지 않으면 DC bias가 존재하지 않을텐데, 장비에는 어떤(?) 의미인지 모를
bias가 표시되더라구요.. -40V 이런 식으로 말입니다. 이게 어떠한 의미를 담고 있는지 궁금합니다.
3. Matching box의 Ground는 어떤 영향을 줄 수 있나요?
RF system의 접지를 floating으로 한 경우와, earth 를 잡았을 경우 어떠한 차이점이 있는지 궁금합니다.
지면접지를 잡아야 한다면 다른 장비들과 어떤 식으로 연결해야 하는지.. 궁금합니다.
여러 자료를 찾아가며 공부하던 중, 토론방에 글을 올려봅니다.
다른 글들도 읽어보았는데, 제가 플라즈마 전공자가 아니라서 잘 이해가 가지 않았어요..
많이 배워가겠습니다. ^^
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76677 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57151 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68673 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92188 |
153 | LF Power에의한 Ion Bombardment [2] | 2002 |
152 | 플라즈마 관련 기초지식 [1] | 2116 |
151 | 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] | 2122 |
150 | 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] | 2172 |
149 | N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] | 2184 |
148 | 플라즈마볼 제작시 [1] | 2232 |
147 | 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] | 2234 |
146 | RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 | 2280 |
145 | 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? | 2327 |
144 | RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] | 2377 |
143 | plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] | 2430 |
142 | 질문있습니다. [1] | 2566 |
141 | 플라즈마 압력에 대하여 [1] | 2725 |
140 | PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] | 2759 |
139 | CVD 공정에서의 self bias [1] | 3087 |
138 | 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 | 3165 |
137 | electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] | 3190 |
136 | RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] | 3281 |
135 | plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] | 3365 |
134 | Bias 관련 질문 드립니다. [1] | 3403 |