안녕하세요 고려대학교 가속기과학과 김지수 학생입니다.

 

ECR ion source를 연구중인데 ECR chamber에 GAS를 주입하고 RF를 인가중 플라즈마가 켜지게 되면

 

RF Reflect가 엄청 많아집니다. RF 주파수를 위아래로 조절해 보아도 Rflect가 기본 base line처럼 깔려서 낮아지질 않네요

 

Plasma상태에 따라서 RF reflect가 많이 달라질까요? 달라진다면 어떤 plasma 상태를 만들어야 될까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76538
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91694
155 ICP에서의 Self bias 효과 [1] update 10
154 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 28
153 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 70
152 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 93
151 ICP에서 전자의 가속 [1] 104
150 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 128
149 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 235
148 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] 304
147 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] 333
146 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 405
145 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 424
144 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 458
143 plasma striation 관련 문의 [1] file 461
142 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 467
141 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 491
140 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 508
139 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 515
138 핵융합 질문 [1] 561
137 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 566
136 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 574

Boards


XE Login