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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69198
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93549
111 플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [재료 표면 반응] [1] 1719
110 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1739
109 터보펌프 에러관련 [1] 1810
108 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1826
107 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1891
106 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1955
105 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 2034
104 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 2073
103 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 2077
102 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 2085
101 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2105
100 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2255
99 etching에 관한 질문입니다. [1] 2349
98 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2373
97 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2385
96 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2395
95 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2395
94 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2433
93 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2442
92 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2610

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