Others 석영이 사용되는 이유?
2010.04.16 19:26
안녕하세요. 플라즈마를 공부하는 최영익이라고 합니다.
plasma device들 중에 석영을 주로 쓰는 경우가 있는데 특별한 이유가있는지요?
플라즈마 발생장치 중에 석영관 사이에서 방전을 한다거나
안테나가 석영관 뒤에 있는 경우가 있는데
석영이 선택되는 특별한 이유가 있는지요?
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [158] | 72989 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 17583 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 55512 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 65684 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 86000 |
705 |
OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다.
![]() | 1 |
704 | Self bias 내용 질문입니다. [1] | 58 |
703 | 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] | 65 |
702 | 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] | 75 |
701 | self bias [1] | 76 |
700 | 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] | 88 |
699 | 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] | 109 |
698 | PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] | 112 |
697 |
구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다.
[1] ![]() | 178 |
696 | 기판표면 번개모양 불량발생 [1] | 195 |
695 | CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] | 199 |
694 | AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 | 207 |
693 | plasma modeling 관련 질문 [1] | 234 |
692 | ESC DC 전극 Damping 저항 | 243 |
691 | 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] | 246 |
690 |
Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동
[1] ![]() | 260 |
689 |
plasma striation 관련 문의
[1] ![]() | 261 |
688 | 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] | 269 |
687 | OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] | 270 |
686 | RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] | 271 |