안녕하세요 Etch 공정 담당하는 회사원입니다~

장비 Idle 상태에서 Dummy 이용하는데 과학적으로 왜 쓰는지 정확하게 이유를 알고싶습니다..

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공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [233] 75736
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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67966
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90148
757 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [1] 35
756 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 42
755 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 60
754 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 77
753 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 85
752 standing wave effect, skin effect 원리 [1] 88
751 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 127
750 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 128
749 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 135
748 PECVD Uniformity [1] 136
747 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 143
746 corona model에 대한 질문입니다. [1] 143
745 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 144
744 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 152
743 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 158
742 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 174
741 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 178
740 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 184
739 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 191
738 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 195

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