Etch 식각 시 나타나는 micro-trench 문제

2019.03.28 15:12

안골 조회 수:1973

안녕하세요? 식각에 관해 공부하고 있는 대학원생입니다.


요즘 plasma etching 에 관한 리뷰를 보는 중 식각 시 나타나는 etch profile의 distortion에 관해서 써놓은 내용을 보았습니다.

특히, Si 공정 중 micro-trench 현상이 일어나고, 그대로 소자가 만들어 졌을 때에 소자 상에서 어떤 문제가 일어나는지 궁금합니다. 

리뷰에 달린 참고문헌을 봐도 distortion에 대한 메커니즘만 설명되어 있고, 실제 소자상에서는 어떤 문제가 있는지 다뤄지지가 않아 너무 궁금합니다...

혹시 이에 대한 문헌이나, 참고할만한 자료가 있으면 답변 부탁드리겠습니다.

감사합니다.


참고한 문헌 : Donnelly, V. M., & Kornblit, A. (2013). Plasma etching: Yesterday, today, and tomorrow. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 31(5), 050825.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76679
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57151
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68673
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92189
787 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 50
786 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 54
785 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 61
784 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 61
783 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 67
782 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 68
781 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 79
780 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 86
779 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 96
778 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 97
777 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 102
776 skin depth에 대한 이해 [1] 103
775 Microwave & RF Plasma [1] 105
774 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 117
773 ICP에서 전자의 가속 [1] 126
772 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 135
771 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 135
770 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 140
769 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 146
768 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 150
쓰기
태그

Boards

XE Login