안녕하십니까.. 현재 반도체업계 종사중이며 Plasma 관련 일을 하고 있습니다. 

다름이 아니오라 궁금한 점이 있어 이렇게 글을 올립니다.

Plasma에 의한 Gas 분해 및 치환 시 하기와 같은 예로


Zr[N(CH3)(C2H5)]4 ---->Zr + N + C + H    (O2 Add)

-- Zr + O2 --->ZrO2

-- C + O2 -->CO2

-- N + N --> N2

-- 4H + O2 -->2H2O

반응하여 생성된다고 가정하였을 때


반도체 공정중에서 Plasma를 발생시켜 Source Gas 및 Add Gas를 반응시켰을 시

1. 생성되는 Powder 종류

2. 생성되는 Gas 종류

3. 항목 1~2에서 우선순위로 생성되는 Gas 및 Powder 종류


위 내용에 관련하여 조언 및 교육을 받고자 하오니 답변 부탁드리겠습니다.


이상입니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76683
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57155
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68675
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92189
787 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 50
786 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 54
785 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 61
784 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 62
783 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 67
782 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 68
781 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 79
780 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 88
779 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 97
778 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 97
777 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 102
776 Microwave & RF Plasma [1] 105
775 skin depth에 대한 이해 [1] 105
774 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 117
773 ICP에서 전자의 가속 [1] 126
772 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 135
771 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 136
770 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 140
769 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 146
768 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 150

Boards


XE Login