Etch Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다.
2020.06.12 10:42
안녕하십니까 RF Power 공급 업체에 다니고 있는 직장인 입니다.
한가지 궁금한 점이 있어서 질문 올립니다.
현재 장비사에서 다른 Power 업체에서 사용하던 것을 저희 업체로 변경 하여 사용했는데
공정 결과 ER이 20% 낮게 나왔다고 합니다.
공정 시 같은 Power, 같은 ICP설비 안테나로 진행 하였으며 RF Matcher와 RF Generator의 Maker만 바뀐 상황입니다.
이와 관련하여 혹시 Matcher가 ER을 낮게 할 수 있는 원인이 될 수 있는지 여부가 궁금합니다.
혹시 관련된 자료 있으면 링크좀 부탁드리겠습니다.
감사합니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76726 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20176 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57166 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68697 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92275 |
| 789 |
플라즈마 설비에 대한 질문
 | 0 |
| 788 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 31 |
| 787 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 52 |
| 786 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 56 |
| 785 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 61 |
| 784 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 68 |
| 783 | Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] | 76 |
| 782 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 80 |
| 781 | 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] | 84 |
| 780 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 100 |
| 779 |
CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다.
[1]  | 105 |
| 778 | Microwave & RF Plasma [1] | 110 |
| 777 | sputtering 을 이용한 film depostion [1] | 111 |
| 776 | ICP에서의 Self bias 효과 [1] | 119 |
| 775 | skin depth에 대한 이해 [1] | 122 |
| 774 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 123 |
| 773 | ICP에서 전자의 가속 [1] | 134 |
| 772 | DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] | 136 |
| 771 | LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] | 146 |
| 770 | 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] | 146 |