Plasma in general plasma modeling 관련 질문
2022.12.04 20:24
안녕하세요, 저는 플라즈마 응용연구실에서 공부하고있는 우병준 이라고 합니다.
plasma modeling 에 대해서 공부를 하던 도중,
SIOC 박막을 CF4 plasma 를 이용해서 식각하는 과정에서, plasma modeling 이 들어가게 되었는데,
Langmuir probe 의 ion density 와 Te 를 갖고 F 의 flux 를 계산하는 방법을 알아내기 위해 여러 논문을 서칭했습니다만, 감이 잘 잡히지 않아서 어려움을 겪고있습니다.
0-dimension plasma modeling 을 하기 위해서 고려해야하는 reaction table 의 여러 반응들을 어떻게 기준을 잡아야하는지 잘 모르겠습니다.
예를들어, F의 flux 를 결정하는 조건들이 있을텐데 그 조건에 대한 기준을 어떻게 잡아야하는지 모르겠습니다.
다른 논문에서 진행했던 방식을 그대로 가져와서 하는건지, 아니면 제가 modeling 의 기준을 잡아야하는건가요 ?
처음하는 분야이다 보니 많이 막막해서, 어떤 방향으로 공부를 해 나가야할지 모르겠어서 질문드립니다..!
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [262] | 76503 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20044 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57103 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68585 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91538 |
782 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 21 |
781 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 30 |
780 | sputtering 을 이용한 film depostion [1] | 32 |
779 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 39 |
778 | Microwave & RF Plasma [1] | 41 |
777 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 48 |
776 | 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] | 50 |
775 | ICP source에서 End-capacitor와 Vpp의 관계 | 54 |
774 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 59 |
773 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 64 |
772 | ICP에서 전자의 가속 [1] | 74 |
771 | 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] | 79 |
770 | 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] | 80 |
769 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 88 |
768 | Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] | 95 |
767 | CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] | 108 |
766 | DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] | 127 |
765 | LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] | 140 |
764 | FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 | 147 |
763 | Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] | 164 |