Etch 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량

2023.02.09 13:21

텅스텐 조회 수:363

안녕하세요. 반도체 회사 재직중인 설비엔지니어입니다.

 

텅스텐 DEPO 설비 유지보수 중에 RF Plasma를 통한 텅스텐 Cleaning에 문제점이 생겨 조언을 얻고자 질문드립니다.

 

텅스텐 Plasma Clean 조건

2100W Generator Power / C2F6 : O2 (1:1 비율) / 300mTorr Chamber Pressure / 13.56MHZ Matcher

 

Plasma Cleaning 진행 중 깜빡깜빡이는 현상이 확인되며 PM을 하고자 Chamer Open 했을 때

텅스텐이 Etching 되지 않고 Heater 및 Shower Head에 텅스텐이 그대로 남아있는 현상이 발생했습니다.

 

관련하여 챔버에 압력/Clean gas/RF 계통의 Part들을 교체해 보고 있으나 현상이 개선되지 않아

플라즈마 깜빡깜빡이는 현상이 Etching 효율을 떨어뜨리는 걸로 보이는데 문제점이 무엇일지 조언 받고싶습니다.

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76683
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57158
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68677
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92193
787 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 50
786 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 54
785 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 61
784 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 62
783 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 67
782 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 68
781 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 79
780 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 88
779 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 97
778 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 97
777 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 102
776 Microwave & RF Plasma [1] 105
775 skin depth에 대한 이해 [1] 105
774 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 117
773 ICP에서 전자의 가속 [1] 126
772 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 135
771 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 136
770 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 140
769 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 146
768 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 150
쓰기
태그

Boards

XE Login