ICP RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계
2021.11.08 17:20
안녕하십니까 교수님. 플라즈마를 이용하는 반도체 장비업체를 다니는 연구원입니다.
언제나 친절한 답변 감사 드립니다.
다름이 아니라 책을 통해서 Study를 하던 중 궁금한 것이 생겨서요.
Microwave plasma에 대해 공부하는데, Radio 와는 다르게 2.45GHz의 고주파 플라즈마를 형성하면
파장이 12.5cm로 훨씬 작아지게 되고 따라서 플라즈마의 크기도 이에 따라 작아진다고 하는데
왜 파장 길이 이상의 플라즈마 형성이 안되는 것인지 궁금합니다.
저는 지금 13.56MHz CCP방식으로 Chamber에 플라즈마를 형성하는데 이 주파수의 경우 파장의 길이보다 플라즈마가 형성되는 챔버의 크기가 훨씬 작게 되는데,
플라즈마가 형성되는 공간이 파장보다 작은 것은 괜찮은데 더 큰것은 왜 안되는지 그 이유가 궁금합니다.
감사합니다
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76543 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20078 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57116 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68615 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91697 |
563 | 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] | 1062 |
562 | Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] | 1063 |
561 | Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] | 1074 |
560 | 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] | 1079 |
559 | 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] | 1088 |
558 | 전자 온도 구하기 [1] | 1099 |
557 | RF 반사파와 이물과의 관계 [1] | 1099 |
556 | MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] | 1101 |
555 | Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] | 1109 |
554 | PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] | 1114 |
553 | wafer bias [1] | 1119 |
552 | Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] | 1120 |
551 | RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] | 1122 |
550 | 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] | 1124 |
549 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1124 |
548 | 자기 거울에 관하여 | 1130 |
547 | 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. | 1133 |
546 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1135 |
545 | 공정플라즈마 [1] | 1136 |
544 | Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] | 1141 |