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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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식각 시 나타나는 micro-trench 문제
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Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다.
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N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다.
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RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다.
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RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY
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ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다.
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플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!?
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공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다!
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[Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련]
[3] | 1723 |
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CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요
[1] | 1733 |
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잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다.
[1] | 1736 |
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유도결합 플라즈마 소스 질문!!!?
[2] | 1741 |
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3 stub 정합에 대해 궁금합니다.
[1] | 1747 |
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doping type에 따른 ER 차이
[1] | 1747 |
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DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다.
[1] | 1772 |
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고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이
[1] | 1776 |
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플라즈마 관련 기초지식
[1] | 1777 |
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422 |
Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
[1] | 1780 |
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421 |
RF matcher와 particle 관계
[2] | 1796 |
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플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다.
[1] | 1836 |
