Others Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요?
2017.10.25 07:56
안녕하세요 Etch 공정 담당하는 회사원입니다~
장비 Idle 상태에서 Dummy 이용하는데 과학적으로 왜 쓰는지 정확하게 이유를 알고싶습니다..
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] | 75788 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19472 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56679 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68067 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 90361 |
| 438 | 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] | 1826 |
| 437 | 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] | 1831 |
| 436 | 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] | 1839 |
| 435 | 가입인사드립니다. [1] | 1864 |
| 434 | 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] | 1873 |
| 433 | 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] | 1900 |
| 432 | N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] | 1906 |
| 431 | ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] | 1934 |
| 430 | chamber impedance [1] | 1946 |
| 429 | doping type에 따른 ER 차이 [1] | 1951 |
| 428 | 플라즈마 관련 기초지식 [1] | 1999 |
| 427 | 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] | 2013 |
| 426 | DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] | 2034 |
| 425 | Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] | 2040 |
| 424 | Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] | 2078 |
| 423 | RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] | 2078 |
| 422 | RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] | 2092 |
| 421 | 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] | 2099 |
| 420 | 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] | 2102 |
| 419 | CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] | 2103 |