안녕하세요, dusty 플라즈마를 활용해서 나노소재를 만드는 연구를 하는 한 학생입니다.

플라즈마 electron density 를 증가하고자 CCP 에서 ICP 로 바꿔서 실험을 진행하고 있는데요,

Ar gas 만 흘럿을때는 매우 아름다운 ICP 효과를 얻을 수 있는데,

O2 gas 를 넣는 순간 ICP 효과가 사라집니다.

튜브 사이즈는 직경 2인치이고, power 는 200 W 정도 인가하였는데 

매칭박스의 매칭이 잘 되지는 않습니다. 

주로 CCP 만 사용하다가 ICP 를 사용하게 되어 매칭박스에 관해 지식이 짧은데,

혹시 ICP 를 사용할때는 이 모드에 맞게 매칭박스를 바꾸어야 하는지요?

감사합니다.