안녕하세요. 눈팅만 몇달을하다..한가지 질문해봅니다..답변이 언제될지모르겠지만..기다리겠습니다..우선좋은 자료를 쉽게설명해줘서 재밌게읽고 아해하고있습니다..궁금한게있는데요..
제가 반도체회사근무중인데..
RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성이 궁금합니다..평가결과는 영향성이있는거같은데..어떻게 메카니즘을 풀어야할지 모르겠네요..

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20183
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68698
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92276
429 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2128
428 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2173
427 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2216
426 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2227
425 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2234
424 플라즈마볼 제작시 [1] file 2236
423 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2237
422 etching에 관한 질문입니다. [1] 2259
421 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2261
420 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2270
419 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2281
418 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2306
417 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2312
416 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2313
415 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2313
414 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2314
413 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2315
412 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2316
411 Wafer particle 성분 분석 [1] 2320
410 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2320

Boards


XE Login