지금 모기업에서 인턴을 하면서 CVD파트에 대해서 공부를 하고있습니다.

PECVD를 과정에서 플라즈마의 균일도가 중요 하다고 합니다.

이때 어떠한 변수들이 플라즈마의 균일도에 영향을 주는지 궁급합니다.

 

이와더불어 N2플라즈마와 수소플라즈마의 차이점에 대해서 알고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76683
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68679
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92193
387 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2758
386 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2759
385 임피던스 매칭회로 [1] file 2801
384 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2812
383 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2867
382 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2869
381 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2888
380 RF matcher와 particle 관계 [2] 2906
379 Plasma etcher particle 원인 [1] 2958
378 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2961
377 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3051
376 CVD 공정에서의 self bias [1] 3089
375 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3158
374 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3165
373 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3171
372 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3175
371 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3190
370 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3261
369 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3282
368 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3318

Boards


XE Login