Plasma in general Plasma Cleaning 관련 문의

2021.11.30 15:37

김강희 조회 수:1320

안녕하세요.

 

Plasma를 이용한 Cleaning 공부를 하고 있는 직장인 입니다.

 

Remote Plasma Asher 설비를 공부하고 있는데요,

 

PR Remove 시에는 O2 Gas를 사용하여 제거하는 것으로 알고있습니다.

 

C + O* → O2↑

 

여기서 O2를 Plasma로 방전시키고, N2 Gas를 Carrier gas로 사용하는데,

 

여기서 Carrier gas는 말 그대로 Radical을 이동시키는 역할만 하는 것인가요??

 

N2 Gas를 Carrier gas로 사용하는 이유가 궁금합니다.

 

추가로 Corrosion 방지를 위해 H2O Gas도 사용하는 것으로 알고 있는데요,

 

H2O 로 Corrosion을 방지하는 원리도 설명 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76538
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91694
704 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 458
703 plasma striation 관련 문의 [1] file 461
702 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] 462
701 PECVD Uniformity [1] 466
700 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 467
699 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 469
698 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 469
697 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 474
696 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 477
695 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 480
694 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 491
693 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 495
692 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 502
691 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 508
690 self bias [1] 513
689 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 515
688 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 525
687 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 535
686 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 536
685 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 536

Boards


XE Login