Plasma Source ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [ECRiS]

2020.12.27 15:04

고려대-김지수 조회 수:918

안녕하세요 고려대학교 가속기과학과 김지수 학생입니다.

 

ECR ion source를 연구중인데 ECR chamber에 GAS를 주입하고 RF를 인가중 플라즈마가 켜지게 되면

 

RF Reflect가 엄청 많아집니다. RF 주파수를 위아래로 조절해 보아도 Rflect가 기본 base line처럼 깔려서 낮아지질 않네요

 

Plasma상태에 따라서 RF reflect가 많이 달라질까요? 달라진다면 어떤 plasma 상태를 만들어야 될까요?

이 게시물을
Profile
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [317] 82719
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21979
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58758
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70390
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96326
644 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다. [Corona breakdown, current density] [1] 864
643 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [플라즈마 표면 반응] [1] 864
642 새집 증후군 없애는 플러스미- 플라즈마에 대해서 [광운대 플라즈마바이오연구센터] [1] 869
641 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지] [2] 870
640 analog tuner관련해서 질문드립니다. [박막 플라즈마 및 tunning 원리] [1] 875
639 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [충돌 거리 및 Deposition] [1] 877
638 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [반응기 내벽 변동 및 벽면 불화 정도 판단] [1] 880
637 교수님 질문이 있습니다. [Child-Langmuir sheath] [1] 887
636 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [OES와 atomic spectroscopy] [1] 890
635 Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지] [1] 893
634 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [플라즈마 응용기술] [1] 899
633 경전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 906
632 플라즈마 충격파 질문 [플라즈마 생성에 의한 충격파 현상] [1] 908
631 반도체 METAL ETCH시 CH4 GAS의 역할 [플라즈마 식각기술] [1] 908
630 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [DBD와 "industrial plasma engineering"] [1] 910
629 플라즈마 용어 질문드립니다. [Self bias] [1] 912
628 Hollow Cahthode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [장치 setting과 전극재료] [1] file 913
» ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [ECRiS] [2] 918
626 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [Breakdown 이해] [1] 924
625 RF 파워서플라이 매칭 문제 931
쓰기
태그

Boards

XE Login