Plasma in general RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다 [고주파 플라즈마 반응 특성]

2021.05.10 16:56

dkdlel 조회 수:3802

안녕하세요.

플라즈마를 이용한 반도체 공정의 균일도에 관련한 모든 게시물을 보며 많은 도움을 받았습니다.

RF Power는 플라즈마 분포 균일성 및 공정 균일도에 영향을 미치지 않는 것인지 궁금하여 질문드립니다. (CCP-RIE, PECVD)

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 82012
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21856
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58637
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70262
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 95956
140 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [전극 표면 전위] [1] 3023
139 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3197
138 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [Maxwallian EEDF] [2] 3449
137 CVD 공정에서의 self bias [이차 전자 생성, 입사 이온 에너지 분포] [1] 3478
136 코로나 방전의 속도에 관하여 [코로나 방전의 이해] [1] 3537
135 방전에서의 재질 질문입니다. [방전과 전압] [1] 3632
134 Bias 관련 질문 드립니다. [Ion plasma frequency] [1] 3677
133 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [Child-Langmuir sheath model] [2] 3779
» RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다 [고주파 플라즈마 반응 특성] [2] 3802
131 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [Gas별 고유한 플라즈마 색] [1] 3839
130 Descum 관련 문의 사항. [라디컬 및 이온 생성과 플라즈마 생성 메커니즘] [1] 3995
129 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [Chemisorption과 pruege gas] [1] 4155
128 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [Self bias 및 플라즈마 방전 매커니즘] [2] 4238
127 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [플라즈마 유전상수] [1] 4503
126 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [충돌 반응 rate constant] [4] 4535
125 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [자유행정거리, Child law sheath] [1] 5061
124 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [Child-Langmuir sheath 및 Debye length] [1] 5428
123 RF Vpp관련하여 문의드립니다. [Self bias와 플라즈마 쉬스] [1] 5912
122 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [Electron Temperature와 Excitation Temperature] [1] 6059
121 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [나노 분말 생성 및 제어 연구] [1] 6484
쓰기
태그

Boards

XE Login