안녕하세요,

재료공학과 연구실에서 연구를 하고 있는 대학원생입니다.

항상 좋은 답변 해주셔서 많은 도움을 받고 있습니다.


제가 이번에 Arcing 관련 이슈를 공부하고 있는데,


1. DC plasma에서의 arcing과 RF plasma에서의 arcing사이에 어떤 차이가 있는지 궁금합니다.

그리고,

2. RF plasma에서 발생하는 arcing을 줄일 수 있는 방법에는 어떠한 것들이 있는지도 궁금합니다.


감사합니다.



번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [218] 75409
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19148
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56477
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67540
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89320
85 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1573
84 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1603
83 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1667
82 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1672
81 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1672
80 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1673
79 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 1712
78 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1782
77 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 1811
76 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 1853
75 가입인사드립니다. [1] 1854
74 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 1890
73 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2004
72 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2055
71 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2073
70 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2151
69 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2314
68 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2450
67 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2583
66 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3074

Boards


XE Login