안녕하세요. 반도체 회사에 근무 중인 김동조입니다.

소자제작 공정중 O2 플라즈마를 이용하여 표면을 처리하는 부분이 있습니다.

공정 조건은 300w, 300sccm 0.04mbar 이며 친수성을 위한 표면 처리를 하고 있습니다.

제가 궁금한 사항은 일반 상온에서의 표면의 플라즈마 효과가 어느정도 지속이 되는 것인가와,

플라즈마 처리를 한 상태에서 오븐에서 120도 12시간 열처리를 하였을 경우 플라즈마의 효과가 유효한 것인지 궁금합니다.

플라즈마에 관한건 이론적으로만 간단히 알고있었을뿐 회사에 들어오고 처음 사용해 보는 것이라 감이 잘 잡히지 않습니다.

번거로우시겠지만 답변 부탁드립니다.!! 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [317] 83123
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 22048
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58812
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70468
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96530
37 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [환경 플라즈마] [1] file 262
36 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 281
35 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [Pd condition과 PDP] [1] 538
34 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [Sheath 전기장 및 instability] [1] file 736
33 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 746
32 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide] [2] 791
31 ICP 후 변색 질문 804
30 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [CCP 방전 원리] [1] file 1080
29 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 1228
28 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [플라즈마 방전 및 이온 가속] [1] 1328
27 산소 양이온의 금속 전극 충돌 현상 [플라즈마 표면 반응] [1] 2692
26 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [표면 전위 생성 및 방전] [3] 3196
25 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [Sputtering 및 particle issue] [1] 4360
24 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6269
23 안녕하세요, 질문드립니다. [플라즈마 토치와 환경처리] [2] 6651
» O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6658
21 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [RRC 연구센터 문의] [1] 7827
20 고온 플라즈마 관련 8122
19 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 9308
18 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [쉬스 전위 및 플라즈마 세정] [1] 11982

Boards


XE Login