반도체업종에서 종사하고있고 얕으나 RF를 이용한 Plasma에 대해 공부를 하는 사람입니다.

질문은 플라즈마 반응용기내에서 발생되는 플라즈마는 빛을 발생시키는데 쉬스영역은 하전입자 밀도가 낮기 때문에

발광현상이 없다고 알고있습니다. 또 쉬스는 부도체, Floating된 물체 표면에 플라즈마를 감싸는 형태로 존재한다고

알고있습니다. 그렇다면 플라즈마 반응용기는 Bulk 플라즈마를 제외하고 모든 영역이 쉬스로 감싸져있다고

생각하면 틀린건가요?

또 만약 쉬스가 반응용기내에서 Bulk 플라즈마를 감싸고 있는 형태라면 반응용기를 관찰하기 위한 Glass view port또한

감싸져 있을텐데 view port에서는 Bulk 플라즈마에서 발생되는 빛이 보입니다. 이건 어떻게 이해해야 될까요?

이해하기 쉽게 설명좀 부탁드립니다. 감사합니다.^^

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [221] 75434
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19169
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56480
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67565
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89373
748 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 61
747 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 80
746 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 82
745 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 89
744 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 90
743 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [1] 103
742 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 105
741 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 120
740 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 123
739 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 124
738 corona model에 대한 질문입니다. [1] 127
737 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 129
736 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 136
735 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 138
734 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 141
733 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 142
732 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 143
731 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 145
730 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 147
729 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 149

Boards


XE Login