안녕하세요~

저는 분석장비 판매 회사에 다니고 있습니다.

저희장비중에 3000도까지 올리는 유도가열로가있는데 이 장비는 챔버안에 유도코일이있고 그 가운데에 그라파이트 도가니를 넣습니다. 도가니 안에는 그라파이트 파우더가 들어가있구요.

그리고 챔버 커버를 다 닫은 후 처음에는 진공을 잡습니다. 약 2.8 x10-2까지 그리고 나서 아르곤 가스를 넣어주는데 약 30분정도 흘려주고 히팅을 시작하는데 이때 플라즈마 현상이 발생하고 파워가 현저히 떨어지는것을 볼수 있습니다.

정상동작이라면 이 플라즈마가 없어야 되는데...이 플라즈마가 발생하게되어 장비를 사용못하고 있는 상태입니다.

원인이 진공상태에서 히팅을 가해서 그런가 생각되어 챔버내 아르곤 가스 량을 측정해보았으나 아르곤 압력은 약 0.035Mpa정도 나왔습니다. 또한 그라파이트 파우더가 코일과 주변부를 오염시켜 쇼트 문제인가 해서 챔버도 닦아 봤지만 여전히 같은 현상이 발생합니다.

이 플라즈마 현상이 왜 발생하는지 원인을 알수있을까 해서 이렇게 문의를 드립니다.

감사합니다.

 

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76727
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20184
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
789 플라즈마 설비에 대한 질문 13
788 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 33
787 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 53
786 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 59
785 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 62
784 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 68
783 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 80
782 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 80
781 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 85
780 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 100
779 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 111
778 Microwave & RF Plasma [1] 112
777 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 113
776 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 124
775 skin depth에 대한 이해 [1] 124
774 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 128
773 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 136
772 ICP에서 전자의 가속 [1] 137
771 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 146
770 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 149

Boards


XE Login