안녕하세요. 저는 유니스트에 재학중인 대학원생입니다.


이전에도 ICP CVD에 대해서 질문을 올렸었는데 그때 답변을 보고 문제점이 무엇인지 알수 있었습니다. 너무나 감사합니다.


그래서 이번에도 질문이 생겨 다시한번 찾아오게 되었습니다.


이번에 궁금한 점은 ICP CVD의 sample stage나 substrate에 magnetic property가 존재할 경우 plasma의 거동이 변하는지 변한다면 어떤식으로 변하게 될지 궁금하여 질문을 드립니다.


제가 찾아본 자료들을 보면 sample stage에 bias를 걸어서 deposition rate을 조절할수 있다는 자료들을 찾아 봤었습니다.


 그러다 문득 생각난게 magnetic field도 유사한 결과를 보여줄것 같은데 이렇게 생각해도 되는지 궁금합니다.


혹시 관련된 서적이나 논문 자료등 추천해주실 만한 자료가 있으시면 염치 불구하고 부탁드리겠습니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76538
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20075
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91694
784 ICP에서의 Self bias 효과 [1] update 9
783 파센법칙 질문 [1] update 17
782 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 28
781 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 35
780 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 39
779 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 50
778 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 55
777 Microwave & RF Plasma [1] 64
776 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 70
775 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 74
774 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 82
773 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 93
772 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 100
771 ICP에서 전자의 가속 [1] 104
770 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 110
769 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] 118
768 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 128
767 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 129
766 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 134
765 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 141

Boards


XE Login