현재 반도체회사에서 CVD 엔지니어로 근무중에 있습니다.

최근 CuSi 공정에서 지속적으로 Thickness에 문제가 발생하여 Wafer Map을 확인하게 되면 Compressive한 Map으로 관찰되고 있습니다.

Wafer를 Compressive하게 변화하게 만드는 source가 대부분 어떤게 있는지 알 수 있을까요? (Ex. AlF, Plasma, Temp ETC)

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] 75788
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19473
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56680
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68067
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90361
758 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 new 25
757 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [1] new 70
756 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] new 87
755 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] new 96
754 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] new 105
753 standing wave effect, skin effect 원리 [1] new 126
752 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] newfile 133
751 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] new 134
750 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] new 136
749 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] new 136
748 corona model에 대한 질문입니다. [1] new 145
747 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] new 149
746 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] new 160
745 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] new 164
744 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] new 175
» Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] new 184
742 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] new 184
741 PECVD Uniformity [1] new 199
740 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] new 202
739 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] newfile 210

Boards


XE Login