Etch Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포]

2024.06.19 19:51

씨비디어린이 조회 수:170

안녕하세요 저는 반도체회사에서 Dry Etch 공정 엔지니어로 근무중입니다.

 

Etch Profile을 Control하는 방법들을 연구하고있는데, 그 중에 Wafer내 영역별로 Capacitance 성분을 조절하여 Etch Profile을 Control 해보는 방법을 구상 중에 있습니다.

여기서 궁금한게, Capacitance 성분이 높은 영역은 Sheath Energy가 작아져 Etch 효율이 떨어질 것으로 생각했는데 제 생각이 맞을지 아니면 Capacitance 성분이 높아지면 해당 영역은 전하 축적량이 커져 Vdc값이 음의 방향으로 커져서 Sheath Energy가 커지는것이 맞을까요?

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 79238
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21259
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58062
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69620
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94407
803 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 184
802 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 184
801 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [상압플라즈마 소스] [1] 188
800 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 194
799 Lxcat dataset에 따른 Plasma discharge에 대한 질문입니다. [CX 데이터] [1] 195
798 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 199
797 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 201
796 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 203
795 corona model에 대한 질문입니다. [준중성과 저압플라즈마] [1] 204
794 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [에너지 균형과 입자 균형식] [1] 205
793 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [RF Power] [1] 206
792 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath] [2] 206
791 인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath] [1] 207
790 플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가] [1] 211
789 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 213
788 RF플라즈마에서 quasineutral에 대해 궁금한게 있어 질문글 올립니다.[quasineutral] [1] file 213
787 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [대기압 플라즈마, highly collisional plasma] [1] 223
786 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [환경 플라즈마] [1] file 226
785 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 228
784 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [Bactericidal 이해] [2] 229
쓰기
태그

Boards

XE Login