Others Xe 기체를 사용한 플라즈마 응용

2004.06.19 16:12

관리자 조회 수:21155 추천:266

Xe 기체는 특히 여기가 잘되는데, 여기 반응 후 ground state로 떨어질 때 방출하는 빛 파장이 일정합니다. 대개는 UV 빛이 나오고 있으며 이때 나오는 빛이 단일 파장이므로 이를 이용하여 각종 광학기기기의 calibration등에 활용할수 있습니다.

아울러 PDP에도 소량의 Xe 기체가 첨가되는데 이 또한나오는 UV에 의해서 PDP 셀 내의 발광물질을 여기시켜 가시 광선영역의 빛(Red, Green, Blue)을 발하기 때문입니다. 마치 형광등과 같은 원리이나 빛의 삼원색을 각기 낸다고 생각하면 됩니다.

Xe lamp에는 고전압 DC 방전을 하고 있는 것으로 알고 있습니다. 이때 형성되는 플라즈마가 arc 영역의 플라즈마가 될 가능성이 있으나 이런 경우에는 전극의 수명이 매우 짧게 될 것이빈다. 하지만 빛의 세기는 매우 세어서 눈이 부실 정도 이상입니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [85] 2329
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 12800
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49615
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61099
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 79283
659 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 20
658 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 47
657 Co-relation between RF Forward power and Vpp [2] 63
656 etch defect 관련 질문드립니다 78
655 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 91
654 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 109
653 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [2] 125
652 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 144
651 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 147
650 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 150
649 doping type에 따른 ER 차이 [1] 159
648 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 172
647 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 176
646 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 201
645 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 205
644 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 206
643 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 217
642 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 220
641 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 222
640 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 233

Boards


XE Login