OES RGA에 대해서

2004.06.19 16:41

관리자 조회 수:10393 추천:267

질문 ::
제주대학교 최치규 교수님 연구실의 대학원생입니다.
CF4와 CH4 gas를 써서 ICP로 증착하는데, 실제 chamber내에
어떤 gas가 들어가는지를 RGA로 측정하려하는데 실제 나오는
peak이 제가 생각하는것과 너무 이상하게 나와서 문의드립니다.
예를 들어 컴퓨터상의 프로그램에서 가로축은 gas의 mass를 의미하는데 28인 경우 N2라 예상되어지는데 실제 peak은 너무 다르게 나와서
문의드립니다.
혹시 RGA에 대한 library가 있으시다면 부탁드립니다.

답변 ::

글쎄, 질문만으로는 무슨 문제인지 알 수 없군요.
일단 inert gas를 이용하거나 He, Ar과 같은 단원자 분자 개스를 이용하여
플라즈마를 만들고 RGA를 동작시켜 보세요. 이들에 대한 원자 질량은 분명하므로
값을 쉽게 비교할 수 있을 것이며 구체적인 실험은 지도 교수님과 상의해 보는 것이
좋을 것 같습니다. 물론 결과에 의심이 가면 계측기 vendor와도 상의하십시오.
Liberary상의 문제는 아닐 것 같습니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] 75420
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19154
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56477
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67551
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89343
748 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 59
747 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 62
746 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 78
745 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 80
744 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [1] 84
743 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 88
742 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 105
741 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 114
740 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 118
739 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 123
738 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 123
737 corona model에 대한 질문입니다. [1] 125
736 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 125
735 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 131
734 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 134
733 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 136
732 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 139
731 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 141
730 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 142
729 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 142
쓰기
태그

Boards

XE Login