Others Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다.
2004.06.25 13:00
===============================<질문>============================
반도체 제조 장비 중 Dry Etch 장치의 Chamber내의 상부 전극의 역할과
Si 전극, Cabon 전극, Grpite 전극..등의 성분과 특성, Plasma 형성차이등,,,
에 대해서 설명 좀 해주세요...
=============================<답변>==============================
반응기에서 전극의 역할 중 가장 중요한 역항을 플라즈마 발생과
관련있다고 할 수 있습니다. 이런 관점이라면 전극으로 유입되는
이온에 의한 이차전자 방출량이 플라즈마 생성 효율에 밀접한
영향을 주게 됨으로 전극의 재질은 유입되는 이온 종 과 에너지에
따라서 얼마나 이차전자가 방출되는가 를 살펴보아야 합니다.
또한 이차전자의 방출과 아울러 전극 표면의 입자도 스퍼터링 되어
나오게 되며 이는 종종 반응에 불필요한 불순물 역할을 하게 됩니다.
이런 화학적 특성 또한 전극을 선택하는 요인이 되기도 합니다.
참고가 되었기를 바랍니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76728 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20190 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68700 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92278 |
789 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 13 |
788 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 33 |
787 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 53 |
786 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 59 |
785 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 62 |
784 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 68 |
783 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 80 |
782 | Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] | 80 |
781 | 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] | 85 |
780 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 100 |
779 | CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] | 111 |
778 | Microwave & RF Plasma [1] | 112 |
777 | sputtering 을 이용한 film depostion [1] | 113 |
776 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 124 |
775 | skin depth에 대한 이해 [1] | 125 |
774 | ICP에서의 Self bias 효과 [1] | 129 |
773 | DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] | 136 |
772 | ICP에서 전자의 가속 [1] | 137 |
771 | LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] | 146 |
770 | 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] | 149 |